龙图光罩(688721)

尊敬的投资者，您好！高端半导体芯片掩模版制造基地项目（二期）非公司IPO的募投项目，但处于珠海公司同一地块。公司上市募投项目工程已建设完成，目前已完成第三代掩模版PSM产品的工艺调试和样品试制，并已送样至客户进行验证，产品验证和导入进度顺利。珠海龙图IPO募投项目规划年产能为1.8万片，定位为130-65nm制程节点的半导体掩模版。二期工程公司将规划建设更高制程节点的掩模产品，目前正在进行二期厂房建设并已启动28nm制程半导体掩模版的规划。感谢您对公司的关注！

尊敬的投资者，您好！公司珠海工厂已完成第三代掩模版PSM产品的工艺调试和样品试制，并已送样至客户进行验证，客户使用PSM样品流片的Wafer已经成功下线，inline收集的各项验证数据均满足客户要求，产品验证和导入进度顺利，预计年内可正式投产。项目后续的具体进度请关注公司的定期报告和相关公告，感谢您对公司的关注！

尊敬的投资者，您好！公司目前产品的主要出口地区为马来西亚、中国台湾等，暂未出口到美国地区。感谢您对公司的关注！

尊敬的投资者，您好！公司主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司已掌握半导体掩模版制作的关键技术，形成涵盖CAM、光刻、检测全流程的核心技术体系，构筑公司的技术壁垒。公司将以现有技术为基础，加大对半导体芯片掩模版的技术研发投入，把握行业发展方向，不断强化公司技术的领先地位，深耕特色工艺的同时，逐步突破高端制程，成为国内半导体掩模版领域的领先企业。珠海子公司基地建设项目将提升公司半导体掩模版的技术水平，加快更高制程掩模版（130nm-65nm节点）研发和量产，公司已相应购置了配套的包括光刻机在内的全流程生产设备，预计于今年第四季度实现第三代半导体掩模版的小批量试产。感谢您对公司的关注！

尊敬的投资者，您好！公司珠海子公司项目将提升公司半导体掩模版的技术水平，加快更高制程掩模版（130nm-65nm节点）的研发和量产，进一步扩大产能规模，公司已相应购置了配套的包括光刻机在内的全流程生产设备。关于光刻机的具体数量及重大投资请关注公司后续的相关公告。半导体掩模版的生产涉及CAM、光刻、检测三个主要环节，具体包括版图处理、图形补偿、曝光、显影、刻蚀、清洗、缺陷检验、缺陷修补、参数测量贴光学膜等多项复杂工艺，对补偿算法、制程能力、精度水平、缺陷管控具有严格要求，技术壁垒较高。公司通过自主研发，已储备电子束光刻、PSM相移掩模版等一系列先进半导体掩模版关键技术，积累了一定的研究成果，为进一步实现产品工艺技术升级、实现更高制程突破打下了坚实的基础。感谢您对公司的关注！