微导纳米(688147)

尊敬的投资者您好，公司半导体产品可用于存储芯片制造，产品类型既包括ALD也包括CVD，ALD产品既有批量型也有单片型，可覆盖客户急需的多个关键工艺环节，并已成功进入数家行业知名客户产线并实现客户端工艺验证。当前，公司半导体在手订单绝大部分来源于存储领域，其中ALD产品维持市场竞争优势，CVD产品加速市场推广并陆续取得了客户重复订单，预计未来CVD产品占比将得到进一步提升。感谢您的关注。

尊敬的投资者您好，公司已经形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售，向下游客户提供先进薄膜设备、配套产品及服务。公司产品目前覆盖半导体、光伏和其他新兴应用领域，具体内容请您参阅公司定期报告，感谢您的关注。

尊敬的投资者您好。公司半导体产品覆盖逻辑芯片、存储芯片、硅基OLED和第三代半导体等诸多半导体应用领域。公司高度重视研发投入，持续保持对新技术的关注，强化科技创新能力。感谢您的关注！

尊敬的投资者您好，公司半导体产品覆盖逻辑芯片、存储芯片、硅基OLED和第三代半导体等诸多半导体应用领域。公司高度重视研发投入，持续保持对新技术的关注，强化科技创新能力。感谢您的关注！

尊敬的投资者您好，公司已开发多款半导体薄膜沉积设备，以满足客户多种薄膜沉积工艺的开发和应用需求。其中，iTomic系列原子层沉积镀膜系统适用于高介电常数（High-k）栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等薄膜工艺需求，可为逻辑芯片、存储芯片及先进封装提供介质层等关键工艺解决方案；iTomicMW系列批量式原子层沉积镀膜系统适用于成膜镀率低，厚度要求高以及产能要求高的关键工艺及应用，可为存储芯片以及Micro-OLED显示器、MEMS等提供定制化量产的解决方案；iTomicLite系列轻型原子层沉积镀膜系统可以按需配置PEALD或ThermalALD等工艺需求，可广泛应用于MEMS、光电器件等泛半导体器件领域；iTomicPE系列等离子体增强原子层沉积镀膜系统可根据不同温度要求制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等薄膜制备工艺及应用，为逻辑芯片、存储芯片、先进封装等提供客制化掩膜层、介质层、图案化等关键工艺解决方案；iTronix系列化学气相沉积镀膜（CVD）系统，可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件等镀膜领域。以上产品部分已进入客户端验证中，并逐步获得客户验收。目前公司半导体收入占比较小但保持快速发展，未来将继续加大半导体及各应用市场的开拓，不断提升产品市占率及其收入占比，具体进展请您随时关注公司后续相关公告，感谢您的关注。