流通市值:182.76亿 | 总市值:330.65亿 | ||
流通股本:1.54亿 | 总股本:2.78亿 |
股票代码 | 688072 | 股票简称 | 拓荆科技 |
公司全称 | 拓荆科技股份有限公司 | 曾用名 | |
市场类型 | 上海证券交易所 | 证券类别 | 上交所科创板A股 |
成立日期 | 2010-04-28 | 上市日期 | 2022-04-08 |
注册资本(万元) | 2783208420000.00 | 总经理 | 刘静 |
法人代表 | 刘静 | 董事会秘书 | 赵曦 |
注册地址 | 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 | 办公地址 | 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 |
电话 | 024-24188000,024-24188000-8089 | 传真 | 024-24188000-8080 |
电子邮箱 | ir@piotech.cn | 公司网址 | www.piotech.cn |
所属行业 | 半导体 | 所属地域 | 辽宁 |
股改实施日期 | 股改进度 | ||
所属板块 | 基金重仓-融资融券-沪股通-MSCI中国-半导体概念-中芯概念-百元股 | ||
主营业务 | 一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子专用设备制造,电子专用设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,机械零件、零部件加工,机械零件、零部件销售,销售代理,非居住房地产租赁(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动) | ||
公司简介 | 拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司在北京、上海、海宁、沈阳和美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备和晶圆混合键合(W2W Hybrid Bonding)设备等系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、TSV封装、MEMS、Micro-LED和Micro-OLED显示等高端技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线,并设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。公司已形成一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。公司总部坐落于沈阳市浑南区,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米。目前公司生产能力可以满足生产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证,并拥有覆盖全球的供应商网络。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。 | ||
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